HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機

時間：2023-05-23

作者：伯東企業（上海）有限公司

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氦質譜檢漏儀 MPCVD 檢漏, 實現金剛石膜制備
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殘余氣體分析儀應用于高溫真空爐, 實現質量保證和過程優化上海伯東某客戶生產研發 X 射線管及組件, 使用德國 Pfeiffer?Hicube RGA 殘余氣體分析儀與高溫真空爐連接, 測試產品在不同溫度下揮發的產物變化, 進一步分析產品的耐用性以及使用形態. 實現真空過程相關的質量控制, 滿足 X 射線管工藝要求.殘余氣體分析儀質量保證和過程優化諸如提供氣體成分定量測定, 確定過程氣體純
KRI 離子源用于UVC人機共存紫外濾光片鍍膜
? ?? ?紫外濾光片是一種光學元件, 通過使用分散在玻璃材料表面的光學薄膜控制入射光通過膜層后不同波長光的透反比. 222nm是紫外不可避免的一個波段, 因為其生物體透過率低, 被譽為對人體的紫外線.222nm遠紫外產品一定程度上解決了傳統紫外線不能直接照射人體的痛點問題, 兼顧了功能性和性, 實現了人機友好共存, 有效減少和滅殺身體表面多達99.9%的細