KRI 霍爾離子源應用于黑膜鍍制

時間：2024-01-10作者：伯東企業（上海）有限公司瀏覽：77

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  詞條說明

• 上海伯東美國 HVA 真空閥門在真空退火爐中的應用

  真空退火爐主要適用于不銹鋼拉深件如水暖器材/ 水脹件/ 醫療器械/ 不銹鋼釘/ 不銹鋼鏍絲/ 壓鉚件/ 不銹鋼軸承/ 表殼/ 表帶/ / 微型軸/ 自攻自鉆/ 餐具等不銹鋼制品在保護氣氛控制下進行連續光亮退火/ 固溶/ 退磁及不銹鋼淬火處理的多用爐.??處理后產品表面光潔, 不氧化, 不脫碳. 具有生產效, 能耗低, 污染少, 操作使用方便, 勞動強度低等優點.也可供金屬材料釬

• KRI 離子源應用于車載AR-HUD 鍍膜

  ?HUD?已經成為一種常見的汽車配置與功能,?通過它來直觀顯示速度、發動機轉速或其他懸停在駕駛員視野中的信息,?減少因低頭查看儀表盤而造成的分心,?提升駕駛.?目前量產的車用抬頭顯示?HUD?正在從風擋型?W-HUD?逐漸向增強現實型的?AR-HUD?發展：從單純的信息展示屏幕,

• HVA 高真空閘閥應用于 E-Beam 鍍膜機

  因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA 高真空閘閥應用于 E-Beam 鍍膜機E-Beam 電子束蒸發鍍膜機用于在半導體, 光學, **導材料等行業的研究與生產, 比如基片蒸發沉積金屬, 導電薄膜, 半導體薄膜, 鐵電薄膜, 光學薄膜和介質材料.E-Beam 鍍膜機設備組成:?系統主要由蒸發室, 電子, 進樣室 (可選) , 旋轉基片加熱臺, 工作氣

• 分子泵組應用于脈沖激光沉積系統 PLD

  渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統?PLD脈沖激光沉積系統 PLD 可用來制備金屬和各種物質薄膜, 甚至還用來制備一些難以合成的材料膜. 為了提高 PLD 系統的真空度和加快抽空時間, 經過伯東選用分子泵+分子泵組串聯組合的形式來提高系統的真空度. 快達到其使用要求.渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統 PLD 客戶案例一: 上海伯東某客戶選用美國相干 Coherent 公司出產的 COM