KRI 離子源用于IR-cut紅外濾光片制備

時間：2024-01-10作者：伯東企業（上海）有限公司瀏覽：112

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  詞條說明

• 上海伯東美國 HVA 真空插板閥在半導體管道中的應用

  半導體后端工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體,氣體管路系統(真空管路)的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下穩定的供應到工藝設備內. 上海伯東美國 HVA?插板閥廣泛用于高真空或高真空的氣體輸送環節,?用來改變氣流方向,?調節氣流量大小,?切斷或接通管路,?起到真空隔離密封等作用. 美國 HVA&nb

• HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機

  因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA?高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統或低溫泵

• 英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量

  英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量 上海伯東代理的英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量應用, 某高校老師通過原子力顯微鏡進行硅片表面形貌測量和表面粗糙度測量, 便于后續進行拉曼增強. 測試方法: 選用上海伯東英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡 ezAFM 進行測試. 將樣品放置在樣品臺, 通過系統軟件自動控制. 原子力顯微鏡測試條件

• 分子泵組玻璃封管抽真空進行金屬燒結試驗

  Pfeiffer?分子泵組玻璃封管抽真空進行金屬燒結試驗上海伯東德國 Pfeiffer 經濟型分子泵組?Hicube 80 Eco 成功應用于玻璃封管抽真空, 進行金屬燒結試驗, 主要應用如下:系統真空度要求: 10-4 mbar1. 玻璃管內放置金屬材料2. 利用分子泵組提供穩定的真空, 封住玻璃管, 抽走多余的空氣和水汽, 減少水, 氧, 氮等氣體對燒結的不良影響, 然后對