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清遠貴金屬靶材報價 作為一家專業生產高純金屬材料、蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的科技型民營股份制工貿有限公司,我們不僅致力于技術創新和產品質量,更重要的是為客戶提供高性價比的貴金屬靶材產品。貴金屬靶材作為電子器件、醫療設備、航空航天和新能源等領域中不可或缺的材料,在我司的精心打造下,獲得了廣泛的市場認可。 貴金屬靶材的重要性不言而喻。在集成電路和大規模集成電路的制造過程中,金、銀、鉑、銠等貴金屬靶材是
靶材革命:鈷合金如何重塑精密鍍膜行業 在真空鍍膜領域,一種新型材料正在引發技術變革。鈷合金靶材憑借其獨特的性能組合,逐漸取代傳統材料,成為精密鍍膜的核心選擇。這種金屬復合材料在磁記錄、半導體封裝等領域展現出不可替代的優勢。 鈷合金靶材的制備工藝決定了其最終性能。通過粉末冶金或熔煉鑄造獲得的靶材坯料,需要經過精密軋制和熱處理才能達到理想的組織結構。真空熱壓技術能夠有效控制材料密度,而后續的機械加工
靶材制作工藝控濺射靶材1)磁控濺射原理:在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場,在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣),永久磁鐵在靶材料表面形成250~350高斯的磁場,同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下,Ar氣電離成正離子和電子,靶上加有一定的負高壓,從靶極發出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大,在陰極附近形成高密度的等離子體,Ar離子在洛侖茲力的作用下加速
氧化錫銻靶材:光電領域的隱形冠軍 在真空鍍膜領域,氧化錫銻靶材憑借其獨特的性能優勢,成為制備透明導電薄膜的核心材料。這種陶瓷靶材由氧化錫和氧化銻按特定比例燒結而成,在可見光區透光率超過85%,電阻率可低至10^-4Ω·cm量級,完美平衡了透明性與導電性這對天然矛盾體。 氧化錫銻薄膜的制備主要采用磁控濺射工藝。當高能粒子轟擊靶材表面時,錫、銻、氧原子以分子形式濺射到基板上,通過精確控制濺射功率、氣
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