新聞快訊-鵬城半導體MOCVD設備

時間：2022-08-03

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

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等離子體化學氣相沉積設備有哪些特點《臺風資訊》
等離子體化學氣相沉積設備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學氣相沉積)，另一個是PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)，它們都是在20世紀70年代發展起來的鍍膜工藝。其特點是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態無機物膜;2、等離子體清洗基材，使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜，內應力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產生微裂紋;4、低溫成膜，溫度對基材沒什么影響，避免了
2022.03.31較新資訊-早知道
鵬城半導體技術（深圳）有限公司研發設計制造了熱絲CVD金剛石設備，分為實驗型設備和生產型設備兩類。設備主要用于微米晶和納米晶金剛石薄膜、導電金剛石薄膜、硬質合金基金剛石涂層刀具、陶瓷軸承內孔鍍金剛石薄膜等。例如可用于生產制造環保領域污水處理用的耐腐蝕金剛石導電電極。可用于平面工件的金剛石薄膜制備，也可用于刀具表面或其它不規則表面的金剛石硬質涂層制備。平面工作尺寸圓形平面工作的尺寸：較大φ650mm
PVD真空鍍膜設備行業分析
一、PVD真空鍍膜設備市場概況高真空電子束蒸鍍機-鵬城半導體2024年，**PVD真空鍍膜設備行業的總規模約為22億美元，而且預計到2024年，這一數字將會翻倍，達到47億美元。PVD真空鍍膜技術由非金屬物質以真空溫度和帶電離子碰撞技術，形成厚膜，具有聚合度高、粘著力強、透明度高及耐腐蝕性好等優點。PVD真空鍍膜設備可廣泛應用于電子、醫療、汽車、航空航天、航空航空電子等領域，以及金屬表面處理、無損
PVD技術在半導體器件中的應用
在快速發展的半導體技術領域，物相沉積（PVD）是實現薄膜沉積工藝精度和效率的關鍵工具。讓我們一起來了解PVD技術在半導體行業中的應用。物相沉積涉及在半導體襯底上沉積薄膜，利用諸如濺射或蒸發等物理過程。PVD的多功能性和可控性使其成為半導體制造中的寶貴工具，可以創建復雜和的設備。PVD在微電子學中的應用薄膜晶體管(TFTs)PVD在TFT的制造中起著關鍵作用，TFT是平板顯示器、發光二管(OLED)