創(chuàng)芯未來 鵬城半導(dǎo)體亮相*四屆**半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會（重慶）

時間：2022-06-25作者：鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司瀏覽：250

鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司專注于PVD鍍膜設(shè)備,化學(xué)氣相沉積,金剛石涂層等

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• 重磅-鵬城半導(dǎo)體子公司鵬城微納獲3項計算機軟件著作權(quán)登記證書！

  近日，經(jīng)*人民共和國國家**審核，根據(jù)《zhrnghg計算機軟件保護條例》和《計算機軟件著作權(quán)登記辦法》的規(guī)定，“鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司-全資子公司鵬城微納技術(shù)（沈陽）有限公司”獲3項《zhrnghg國家**計算機軟件著作權(quán)登記證書》，分別是：《多功能磁控濺射系統(tǒng)軟件V1.0》、《高真空熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)軟件V1.0》、《立式多功能熱絲CVD沉積系統(tǒng)軟件V1.0》。從頒證之日起，該3

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  2023年*二屆*三代半導(dǎo)體材料技術(shù)與市場研討會由半導(dǎo)體在線主辦，本屆會議于2023年3月30-31日在中國-蘇州合景萬怡酒店召開。*二屆*三代半導(dǎo)體材料技術(shù)與市場研討會提供協(xié)同創(chuàng)新的高質(zhì)量交流平臺，推動國內(nèi)三代半導(dǎo)體材料的學(xué)術(shù)研究、技術(shù)進步和產(chǎn)業(yè)發(fā)展，展示業(yè)內(nèi)精英企業(yè)，凝聚行業(yè)發(fā)展共識。在此次會議，鵬城半導(dǎo)體技術(shù)（深圳）有限公司（簡稱：鵬城半導(dǎo)體）將帶來納米技術(shù)及高端制造設(shè)備跟大家見面，其中包括

• 化學(xué)氣相沉積設(shè)備（CVD）-小型管式LPCVD設(shè)備

  LPECVD是在低壓高溫的條件下，通過化學(xué)反應(yīng)氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科學(xué)研究、實踐教學(xué)、小型器件制造。小型管式LPCVD設(shè)備設(shè)備結(jié)構(gòu)及特點1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片。基片放置方式：配置三種基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角。基片形狀類型：不規(guī)則形狀的散片、φ2～4

• 高真空磁控濺射鍍膜技術(shù)【地震資訊】

  真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜技術(shù)有三種形式：即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜。在這里主要講下磁控濺射鍍膜。磁控濺射技術(shù)在市場中應(yīng)用非常的廣泛，各行各業(yè)物件膜層鍍膜，大多數(shù)都是采用磁控濺射技術(shù)，磁控濺射技術(shù)在真空行業(yè)也是非常的受歡迎和追捧。高真空磁控濺射鍍膜是屬于物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種，一般的濺