鵬城半導體參加*十五屆中國微納電子技術交流與學術研討會

時間：2022-10-10

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

詞條
詞條說明
化學氣相沉積設備（CVD）-小型管式LPCVD設備
LPECVD是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科學研究、實踐教學、小型器件制造。小型管式LPCVD設備設備結構及特點1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片。基片放置方式：配置三種基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角。基片形狀類型：不規(guī)則形狀的散片、φ2～4
鵬城半導體榮膺國家**企業(yè)，**納米與原子制造技術新征程
在科技飛速發(fā)展的當下，半導體行業(yè)作為現代信息技術的基石，正不斷推動著各個領域的創(chuàng)新與變革。近日，鵬城半導體技術（深圳）有限公司憑借其**的技術創(chuàng)新能力和在半導體領域的**貢獻，成功獲得國家**企業(yè)認定。這一殊榮不僅是對鵬城半導體過往努力的**，較標志著其在納米與原子制造技術領域的良好地位得到了*認證。鵬城半導體成立于 2021 年，由哈爾濱工業(yè)大學（深圳）與擁有多年實踐經驗的工程師團隊共
熱絲CVD金剛石解決方案
【前言】金剛石是自然界已發(fā)現的具有較高的硬度、強度、耐磨性材料，金剛石具有的熱導率、透過波段、聲速以及半導體特性和化學惰性等綜合性能使其成為當今世界上較優(yōu)秀的*材料。上世紀80年代初期通過化學低壓氣相沉積生成金剛石薄膜(CVD)技術**突破性進展，經過多年的研究發(fā)展，CVD金剛石生長技術已日漸成熟。目前已有四種形態(tài)的CVD金剛石產品進入市場，它們是：1)純多晶金剛石厚片 2)涂層金剛石；3)大
「喜訊」熱烈祝賀鵬城半導體榮獲4項軟件著作權**證書
近日，鵬城半導體技術（深圳）有限公司（簡稱：鵬城半導體）申請的《PVD薄膜沉積系統(tǒng)軟件》、《高真空濺射系統(tǒng)軟件》、《電子束蒸鍍薄膜沉積系統(tǒng)軟件》、《微米晶、納米晶金剛石薄膜CVD沉積系統(tǒng)軟件》4項軟件著作權**通過審批，經*人民共和國國家**考證，根據《*人民共和國計算機軟件保護條例》和《計算機軟件著作權登記辦法》的規(guī)定，鵬城半導體技術（深圳）有限公司被認定這4項軟件的法定著作權人，從頒證