美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機應用

時間：2024-01-12

作者：伯東企業（上海）有限公司

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詞條說明
上海伯東提供適用于薄膜太陽能電池生產的離子源和真空系統
? ? ?在沒有真空的情況下，可再生能源的發展是不可能的。以光伏發電（Photovoltaics，PV）為例，這是一種為大家所熟知的能源轉化方式，通過太陽能電池將太陽輻射能轉化為電子流，進而生成電能。? ? ? ?太陽能電池技術有許多種類，其中一種主要的技術是基于薄膜沉積。這種方法的主要優點在于，它在制造太陽能電池時消耗的材料較
氦質譜檢漏儀 CVD 設備檢漏,滿足*三代半導體芯片量產
氦質譜檢漏儀?CVD 設備檢漏, 滿足*三代半導體芯片量產上海伯東某客戶是一家以**化合物半導體光電器件相關產品衍生智造為主業的創新型科技公司, **產品是物聯網, 5G 通訊, 安防監控等*三代半導體芯片. 芯片在生產過程中使用 CVD 設備做鍍膜處理, 在鍍膜過程中需要保持設備處于高真空狀態, 這就要求腔體的泄漏率不能過 1E-10 mbrl l/s.CVD?設備檢漏要
KRI 離子源用于離子束拋光機
?? ? 離子束拋光適用于大面積、異型、特殊材料等加工對象的非接觸式修形及拋光,?精度可達亞納米級,?被譽為拋光.?離子束拋光機的部件是可聚焦的高能量離子源.?上海伯東某客戶為精密光學元器件設備制造商,?主要產品為離子束拋光機、磁流變拋光機等,?提供精密光學工藝制造研發服務,?是一家精密光學元器件解
KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜
立方氮化硼（cBN）由于具有高的硬度/ 好的化學惰性/ 較好的熱穩定性/ 高的熱導率/ 在寬波長范圍內(約從 200nm 開始) 有很好的透光性/ 可摻雜為 n 型和 p 型半導體等特點, 在切削工具/ 材料/ 光學元件表面涂層/ 高溫/ 高頻/ 大功率/ 抗輻射電子器件/ 電路熱沉材料和絕緣涂覆層等方面具有很大的應用潛力.?在對立方氮化硼 (cBN) 薄膜研究中, 西北某金屬研究所采用