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詞條說明
CMOS圖像傳感器制造的工藝問題CMOS圖像傳感器采用8英寸和12英寸晶圓代工廠的成熟工藝制程,用于手機(jī)、汽車、消費(fèi)電子產(chǎn)品、工業(yè)和醫(yī)療系統(tǒng)、安防攝像頭。配置雙攝像頭和多攝像頭的智能手機(jī)已是司空見慣,每個(gè)攝像頭均需要集成一顆CMOS圖像傳感器將光轉(zhuǎn)換為電信號(hào)以創(chuàng)建圖像。CMOS圖像傳感器外觀示意圖智能手機(jī)搭載的CMOS圖像傳感器數(shù)量還將增加,為攝像頭賦予高分辨率和豐富的功能。例如,三星較新款5G智
1、 成像過程 CCD 與CMOS 圖像傳感器光電轉(zhuǎn)換的原理相同,他們較主要的差別在于信號(hào)的讀出過程不同;由于CCD僅有一個(gè)(或少數(shù)幾個(gè))輸出節(jié)點(diǎn)統(tǒng)一讀出,其信號(hào)輸出的一致性非常好;而CMOS 芯片中,每個(gè)像素都有各自的信號(hào)放大器,各自進(jìn)行電荷-電壓的轉(zhuǎn)換,其信號(hào)輸出的一致性較差。但是CCD 為了讀出整幅圖像信號(hào),要求輸出放大器的信號(hào)帶寬較寬,而在CMOS 芯片中,每個(gè)像元中的放大器的帶寬要求較低
不可否認(rèn)的是,CMOS的微縮已經(jīng)成為推動(dòng)過去幾十年的巨大進(jìn)步的“燃料”,以提高性能、效率和降低集成電路和系統(tǒng)的成本,從而實(shí)現(xiàn)新的應(yīng)用。摩爾定律的終結(jié)已經(jīng)被預(yù)言了很多次,而材料、設(shè)備概念和圖案的創(chuàng)新已經(jīng)為當(dāng)前的10nm以下技術(shù)掃清了道路。然而,該行業(yè)已經(jīng)到了這樣一個(gè)階段:過去50年的規(guī)模化所帶來的功耗、性能、面積和成本(PPAC)方面的典型收益已經(jīng)變得越來越難以實(shí)現(xiàn),尤其是在展望未來3nm技術(shù)的時(shí)候
CMOS的制作需要經(jīng)過一系列的復(fù)雜的化學(xué)和物理操作,而做為一名集成電路版圖(ic layout)工程師,系統(tǒng)的了解這個(gè)在半導(dǎo)體制造技術(shù)中具有代表性的CMOS工藝流程是非常有必要的。只有熟悉了工藝流程才會(huì)了解各層次之間的關(guān)系,才會(huì)在IC Layout的繪制中考慮到版圖中各層次對(duì)流片產(chǎn)生的影響。1初始清洗將晶圓放入清洗槽中,利用化學(xué)或物理方法將在晶圓表面的塵粒或雜質(zhì)去除,防止這些雜質(zhì)塵粒對(duì)后續(xù)制造工藝
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