氧化鈰在拋光上的前景

時間：2020-11-25

作者：杭州萬景新材料有限公司

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氧化鈰在拋光上的前景
氧化鈰在拋光上的前景信息和光電子領域的高速發展促進了化學機械拋光 (CMP)技術的不斷更新。除了設備和材料外 , 高精度表面的獲取更有賴于高效研磨粒子的設計與工業化生產,以及相應的拋光漿料的調配。而且隨著表面加工精度和效率要求的不斷提高，對高效拋光材料的要求也越來越高。二氧化鈰在微電子器件和精密光學元器件表面精密加工中已經得到廣泛應用。氧化鈰拋光粉（VK-Ce01）拋光粉因具有切削能力強，拋光
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