CVD涂層設(shè)備、CVD設(shè)備

時(shí)間：2020-01-05作者：上海晨鑫電爐有限公司瀏覽：2057

上海晨鑫電爐有限公司專注于工業(yè)電爐,真空熱壓爐,真空熔煉爐,Sps燒結(jié)系統(tǒng),真空燒結(jié)爐,真空釬焊爐,實(shí)驗(yàn)燒結(jié)爐,真空雙向加壓爐等

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  公司在蘇州成立材料制備中心 ?????2010年8月2日我公司同華東理工大學(xué)、四川大學(xué)、北京科技大學(xué)在風(fēng)景秀麗的蘇州組建了新材料實(shí)驗(yàn)基地，目前基地?fù)碛袊鴥?nèi)**的真空設(shè)備，如sps放電等離子燒結(jié)系統(tǒng)、真空物理納米生產(chǎn)系統(tǒng)、真空中頻熔煉爐、微波燒結(jié)爐、激光快速燒結(jié)系統(tǒng)以及自蔓延真空制粉系統(tǒng)，實(shí)驗(yàn)基地將以提供**的材料制備系統(tǒng)，從制粉到制備各種樣品全系

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  ?我公司和中科院寧波材料所聯(lián)合研制開發(fā)了產(chǎn)業(yè)化CVD裝備及涂層。開發(fā)的CVD裝備具有有效沉積容積大，氣流均勻可控，溫度均勻可控的特點(diǎn)。開發(fā)了相應(yīng)的碳化硅，氮化鈦復(fù)合硬質(zhì)涂層和金剛石超硬涂層，并且可以調(diào)控涂層界面，具有涂層附著力強(qiáng)的特點(diǎn)。 上海晨鑫電爐有限公司