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深圳合金靶材廠


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  • 磁控濺射鈷鐵硼合金靶材

    磁控濺射靶材:薄膜制備的"心臟"在真空鍍膜技術領域,磁控濺射靶材扮演著至關重要的角色。這種特殊材料通過高能粒子轟擊釋放出原子,在基底表面沉積形成均勻薄膜。鈷鐵硼合金靶材因其獨特的磁性能,成為制備磁性薄膜的首選材料。磁控濺射過程中,靶材的純度直接影響薄膜質量。高純度靶材能減少雜質摻入,確保薄膜性能穩定。密度同樣是關鍵指標,高密度靶材可以降低濺射過程中的顆粒飛濺,提高鍍膜均勻性。現代制備工藝通過熱等

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    氧化銦鎵鋅靶材:透明導電薄膜的核心材料 氧化銦鎵鋅(IGZO)靶材是一種重要的功能材料,主要用于制備高性能透明導電薄膜。這種材料在顯示技術、半導體器件和柔性電子領域具有廣泛的應用前景。 IGZO靶材的核心優勢在于其優異的電學性能和光學特性。相比傳統的氧化銦錫(ITO),IGZO具有更高的載流子遷移率,能夠實現更快的電子傳輸速度,同時保持較高的可見光透過率。這一特性使其成為高分辨率顯示器的理想選擇

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