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時間：2015-02-12

低能低壓汞燈
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日本SEN特殊光源株式會社成立于1965年，**生產低壓汞燈，高壓汞燈， UV清洗燈，UV固化燈，殺菌燈，大型光清洗機，桌上型清洗機，大型光固化機，桌上型固化機，手提式固化機，UV紫外線臭氧殺菌機等各種紫外線臭氧產品。所有產品全部日本制造，日本發送。

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紫外線表面清洗
作者 SEN特殊光源株式會社社長 菊池 清


１ 紫外線表面清洗
紫外線表面清洗是近年來新興的清洗方法。紫外線表面清洗法不同于原有清洗法，沒有廢水，廢氣，廢物產生。是高能環保型清洗殺菌方法。廣泛運用于LCD,PCB，點子，印刷，塑膠，玻璃，涂裝等領域。
紫外線清洗是是利用**化合物的光敏氧化作用達到去除附著在材料表面的**物質。經過光清洗后的材料表面可以達到原子級清潔度。
其主要原理為紫外線燈發出的 185nm波長和254nm波長具有很高的能量，**大多數**物的結合能量。由于大多數碳氫化合物對185nm波長的紫外線具有較強的吸收能力，并且可以在吸收185nm波長后分解成離子，流離態原子， 受激分子和中子等，這就是光敏作用。空氣中的氧分子在吸收了185nm波長的紫外光后，會產生臭氧和氧氣，臭氧對254nm波長具有很強的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有較強的氧化性，可以將碳氫化合鍵切斷，生成水和二氧化碳等易揮發氣體，從被照射物表面飄逸出，**清除物體表面的污染物。這就是紫外線清洗的原理。
清洗法有干洗和濕洗兩種。干洗有UV臭氧清洗，等離子清洗，離子清洗等。濕洗有水洗，堿清洗，酸清洗，液體噴射清洗等。我們日常所熟悉的濕式清洗有可以清洗掉較大范圍污染的優點。但是也會有清洗不掉的污染。同時由于清洗的溶劑會在被清洗物表面殘留，因此對于高精密世界來說也是個污染。
與此相反UV紫外線清洗雖然不能清洗掉大范圍的污染，卻可以清洗到各個角落的就是光洗凈技術（以下簡稱UV臭氧清洗）。在納米技術世界里，我們雖然看不到**性污染，但是**污染在表面形成膜（軟接著層）如果在這層膜上印刷的話，就會出現鮮度惡化以及針孔等障礙。UV臭氧清洗可以去除的污染有**化合物以及含有油脂的污染等。

2　二次污染的注意
  玻璃表面的**性污染膜厚度在單分子層以下時是非常清潔的表面狀態。即便是在實驗室或這是無菌室里的大氣中也會有微量的揮發性**化合物或者硫化合物，將洗凈玻璃放置于這種環境下也會被這些蒸汽污染。高度清洗過后的表面接觸角會在30分到1小時內恢復到20度。因此我們認為**高清潔玻璃不易長時間保存。

3 可以將粒子極限清洗的清洗工藝
UV臭氧清洗和濕式清洗的結合
UV臭氧清洗是使**性污染膜清洗到單分子層以下的高清洗技術，如下圖所示在完成清洗階段使用UV臭氧清洗技術。但是UV臭氧清洗對于粒子沒有效果。同時濕式清洗不能*清除**性污染，會保留幾個分子層厚度的油膜。被這些油墨所吸收的粒子在沖洗過程中很難被全部清洗掉。UV臭氧清洗是完成階段的清洗，在生產過程中我們發現了如下圖所示UV臭氧清洗后使用例如溫水沖洗的清洗工藝。UV臭氧清洗如圖所示油膜基本上都可以清除。在此之后使用純水沖洗可以將沒有油膜保護的粒子很容易的沖洗掉，得到沒有粒子，沒有**污染物的高清潔面。
這種技術方法不但在液晶顯示裝置的現場使用，在原版曝光和分光板的制造工程中也被大量使用。

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